Hyppää sisältöön
    • Suomeksi
    • På svenska
    • In English
  • Suomi
  • Svenska
  • English
  • Kirjaudu
Hakuohjeet
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Näytä viite 
  •   Ammattikorkeakoulut
  • Jyväskylän ammattikorkeakoulu
  • Julkaisut
  • Näytä viite
  •   Ammattikorkeakoulut
  • Jyväskylän ammattikorkeakoulu
  • Julkaisut
  • Näytä viite

Atomic layer deposition of thermoelectric Al-doped ZnO (AZO) films on flexible ion track etched PET templates

Alakoski,Esa; Kinnunen,Sami; Laine,Timo; Girish,Tewari; Julin,Jaakko; Soininen, Antti J; Karppinen,Maarit (2024)

 
Avaa tiedosto
AA-TuP-15_Alakoski.pdf (1.796Mt)
Lataukset: 


Alakoski,Esa
Kinnunen,Sami
Laine,Timo
Girish,Tewari
Julin,Jaakko
Soininen, Antti J
Karppinen,Maarit
2024
Näytä kaikki kuvailutiedot
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:NBN:fi-fe2024090969893
Tiivistelmä
Atomic scale thickness control and superior conformality make ALD the optimal deposition method for preparing nanostructured coatings and in the case of TE materials coatings with tailored thermal and electronic properties. Even more freedom for “the atomic architect” is given by the development of MLD (Molecular Layer Deposition, “The ALD of organic materials”) and the ability to prepare organic/inorganic hybrid coatings and superlattice structures. With superlattice structures thermal conductivity of TE thin films can be significantly reduced e.g. with ZnO:HQ Hydroquinone) by a factor of 1/50. The most promising field of application of thin film TE devices is wearable electronics, miniaturized biomedical devices and sensors.
Kokoelmat
  • Julkaisut
Ammattikorkeakoulujen opinnäytetyöt ja julkaisut
Yhteydenotto | Tietoa käyttöoikeuksista | Tietosuojailmoitus | Saavutettavuusseloste
 

Selaa kokoelmaa

NimekkeetTekijätJulkaisuajatKoulutusalatAsiasanatUusimmatKokoelmat

Henkilökunnalle

Ammattikorkeakoulujen opinnäytetyöt ja julkaisut
Yhteydenotto | Tietoa käyttöoikeuksista | Tietosuojailmoitus | Saavutettavuusseloste