Jatkuvatoimisten mittausten käyttö valkaisuprosessien kemikaalien optimoinnissa
Ollila, Johanna (2005)
Ollila, Johanna
2005
All rights reserved. This publication is copyrighted. You may download, display and print it for Your own personal use. Commercial use is prohibited.
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:NBN:fi:amk-202602173058
https://urn.fi/URN:NBN:fi:amk-202602173058
Tiivistelmä
Opinnäytetyö tehtiin Kemijärven Sellu Oy:n sellutehtaalla. Sen tavoitteena oli kehittää Kemijärven Sellu Oy:n valkaisun eri prosessin osille kemikaalien säätöohjelma, joka optimoi eri kemikaalien määrät tarvittaviin kohteisiin käyttäen apuna valkaisun jatkuvatoimisia mittareita sekä KappaBrite-analysaattoria. Työssä perehdyttiin erityisesti siihen miten valkaisuprosessin jatkuvatoimisten prosessimittauksien tuloksia voitaisiin käyttää enemmän hyväksi kemikaalien käytön optimoinnissa. Lisäksi työssä määriteltiin valkaisun käyttämä tuoreveden sekä prosessikanaaliin poistuva jäteveden määrä
Tutkimuksissa tehtiin ECF- sekä TCF-sellun valkaisun eri prosessin osille oma kemikaalien säätöohjelma, jolla pystyttiin tasaamaan valkaisun eri vaiheiden kappa/vaaleusheittoja. Työssä käytettiin apuna valkaisussa olevia jatkuvatoimisia Cormec-vaaleusmittauksia, KappaBrite-analysattoria sekä eri vaiheiden pH-mittauksia.
Tuloksista havaittiin, että työn aikana tehdyt pH:n säätöpiirit toimivat erittäin hyvin ja vaiheiden syöttö-pH:t saatiin hyvin hallintaan. Pienet pH:n heittelyt vaiheiden syötössä aiheutuivat vaiheita edeltävien suotimien epätasaisesta kierrosten säädöstä. Tämä ongelma tullaan poistamaan tulevan kesän aikana vaihtamalla suotimien tasavirtakäytöt invertteriohj auksiin.
Vaaleuden säätöohjelmien teossa oli ongelmia johtuen paperiliiton ylityökiellosta sekä lakon aiheuttamista tehtaan useista alasajoista. Tämä johti siihen, että pystyttiin tekemään vaaleuden säätöohjelma ainoastaan P-vaiheeseen ja tämäkin säätöohjelma saatiin toimimaan ainoastaan KappaBrite-tuloksiin perustuen edellä mainittujen syiden vuoksi.
Näiden kaikkien ohjelmien säätö kerättiin yhdelle sivulle valkaisun ohjausjärjestelmään, josta valkaisija voi tehdä tarvittaessa muutokset eri kemikaalien säätöön.
Tutkimuksissa tehtiin ECF- sekä TCF-sellun valkaisun eri prosessin osille oma kemikaalien säätöohjelma, jolla pystyttiin tasaamaan valkaisun eri vaiheiden kappa/vaaleusheittoja. Työssä käytettiin apuna valkaisussa olevia jatkuvatoimisia Cormec-vaaleusmittauksia, KappaBrite-analysattoria sekä eri vaiheiden pH-mittauksia.
Tuloksista havaittiin, että työn aikana tehdyt pH:n säätöpiirit toimivat erittäin hyvin ja vaiheiden syöttö-pH:t saatiin hyvin hallintaan. Pienet pH:n heittelyt vaiheiden syötössä aiheutuivat vaiheita edeltävien suotimien epätasaisesta kierrosten säädöstä. Tämä ongelma tullaan poistamaan tulevan kesän aikana vaihtamalla suotimien tasavirtakäytöt invertteriohj auksiin.
Vaaleuden säätöohjelmien teossa oli ongelmia johtuen paperiliiton ylityökiellosta sekä lakon aiheuttamista tehtaan useista alasajoista. Tämä johti siihen, että pystyttiin tekemään vaaleuden säätöohjelma ainoastaan P-vaiheeseen ja tämäkin säätöohjelma saatiin toimimaan ainoastaan KappaBrite-tuloksiin perustuen edellä mainittujen syiden vuoksi.
Näiden kaikkien ohjelmien säätö kerättiin yhdelle sivulle valkaisun ohjausjärjestelmään, josta valkaisija voi tehdä tarvittaessa muutokset eri kemikaalien säätöön.