NOM-AINEIDEN EROTUS PROSESSIVEDESTÄ JA ANALYSOINTI LC-OCD-MENETELMÄN AVULLA
Wennström, Janne (2012)
Wennström, Janne
Keski-Pohjanmaan ammattikorkeakoulu
2012
All rights reserved
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:NBN:fi:amk-2012061512772
https://urn.fi/URN:NBN:fi:amk-2012061512772
Tiivistelmä
Suomen leveysasteiden pintavedet ovat ilmaston ja maaperän vuoksi hyvin humuspitoisia. Ilmaston lämpeneminen lisää orgaanisen aineen määrää vesistöissä. Varsinkin talvisin, kun vedet jäätyvät eivätkä pääse virtaamaan vapaasti, orgaaninen aines jää seisomaan aiheuttaen pintavesilaitoksissa lisähaasteita sen erottamiseksi. Suurimmat ongelmat syntyvät vesilaitoksissa, joissa käytetään klooripitoisia desinfiointikemikaaleja mikrobikasvun ehkäisemiseksi. Tällöin sivutuotteina syntyy karsinogeenisia ja myrkyllisiä sivutuotteita, kuten trihalometaania ja muita organokloorisia yhdisteitä.
Opinnäytetyössä käsitellään NOM:n esiintymistä luonnossa ja sen fraktioimista perustuen sen partikkelikokoon sekä LC-OCD:n analyyseihin perustuvaa fraktioimista kuuteen eri jaeluokkaan. Lisäksi opinnäytetyössä on esitetty neljä erilaista vedenkäsittelyn yksikköprosessia, joiden avulla NOM-aineita voidaan tehokkaasti poistaa, sekä kokonaisuudessaan Kokkolan suurteollisuusalueen, Kokkola Industrial Parkin käyttämä prosessi talousveden sekä ionivaihdetunveden valmistamiseksi. Opinnäytetyön sivuamat prosessit on osoitettu toimiviksi vaihtoehdoiksi orgaanisen materiaalin poistamisseksi raakavedestä.
Viimeisessä osiossa on esitelty saksalaisen tohtori Stefan Huberin ja hänen työryhmänsä kehittelemän LC-OCD-laitteiston historiaa ja toimintaa. Kyseisellä laitteistolla kyetään suorittamaan analyysejä NOM fraktioista ppb-mittakaavassa. Laite on käytännössä orgaanisen hiilen detektori, ja uudemmalla laitekokoonpanolla kyetään analysoimaan myös orgaanisen typen määrää näytteessä. Laitteiston keskuksena toimii Gräntzel-ohutfilmireaktori, jossa tapahtuu näytteen hapettaminen UV-valon avulla 185 nanometrin aallonpituudella. Tämän ansiosta radikaaleja kyetään tuottamaan suoraan vedestä, eikä ulkopuolisia hapettajia tarvita.
Opinnäytetyössä käsitellään NOM:n esiintymistä luonnossa ja sen fraktioimista perustuen sen partikkelikokoon sekä LC-OCD:n analyyseihin perustuvaa fraktioimista kuuteen eri jaeluokkaan. Lisäksi opinnäytetyössä on esitetty neljä erilaista vedenkäsittelyn yksikköprosessia, joiden avulla NOM-aineita voidaan tehokkaasti poistaa, sekä kokonaisuudessaan Kokkolan suurteollisuusalueen, Kokkola Industrial Parkin käyttämä prosessi talousveden sekä ionivaihdetunveden valmistamiseksi. Opinnäytetyön sivuamat prosessit on osoitettu toimiviksi vaihtoehdoiksi orgaanisen materiaalin poistamisseksi raakavedestä.
Viimeisessä osiossa on esitelty saksalaisen tohtori Stefan Huberin ja hänen työryhmänsä kehittelemän LC-OCD-laitteiston historiaa ja toimintaa. Kyseisellä laitteistolla kyetään suorittamaan analyysejä NOM fraktioista ppb-mittakaavassa. Laite on käytännössä orgaanisen hiilen detektori, ja uudemmalla laitekokoonpanolla kyetään analysoimaan myös orgaanisen typen määrää näytteessä. Laitteiston keskuksena toimii Gräntzel-ohutfilmireaktori, jossa tapahtuu näytteen hapettaminen UV-valon avulla 185 nanometrin aallonpituudella. Tämän ansiosta radikaaleja kyetään tuottamaan suoraan vedestä, eikä ulkopuolisia hapettajia tarvita.