Piikiekkojen läppäyspesu
Rintamäki, Mikaela (2025)
2025
All rights reserved. This publication is copyrighted. You may download, display and print it for Your own personal use. Commercial use is prohibited.
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:NBN:fi:amk-2025060921560
https://urn.fi/URN:NBN:fi:amk-2025060921560
Tiivistelmä
Opinnäytetyön tavoitteena oli tuottaa kirjallisuuskatsaus piikiekkojen läppäyksen jälkeisen puhdistusprosessin vaikutusmekanismeista sekä vaihtoehtoisista reagensseista ja nykyistä puhdistusprosessia parantavista ominaisuuksista. Kirjallisuuskatsauksen tulosten pohjalta toteutettiin harkinnanvaraisesti Standard Clean 1-liuoksen pääreagenssien, ammoniumhydroksidin ja vetyperoksidin, pitoisuuden määritys titrausmenetelmällä.
Toimeksiantajana opinnäytetyölle toimi piikiekkoja valmistava yritys Okmetic Oy. Taustana aiheen valinnalle oli läppäyspesuprosessin laadun parantaminen.
Kirjallisuuskatsaus sisältää piikiekkojen pinnalla olevien epäpuhtauksien optimaalisen puhdistusjärjestyksen, käytettyjen reagenssien vaikutuksen piipinnalle, nykyistä prosessia parantavia ominaisuuksia ja vertailun vaihtoehtoisista reagensseista. Kokonaisuuksien hahmottamiseksi kirjallisuuskatsauksessa käsitellään lisäksi perustietoja piistä alkuaineena, piin käyttötarkoituksesta puolijohdeteollisuudessa ja esittelyn piikiekkojen valmistusprosessin vaiheista pääpiirteittäin. Käytännöntyön tulosten perusteella osoitettiin, että nykyisessä puhdistusprosessissa käytetyn Standard Clean 1-liuoksen pääreagenssien seossuhde ei ole tarkoituksenmukainen, sillä ammoniumhydroksidipitoisuus oli liian korkea suhteessa vetyperoksidiin.
Toimeksiantajana opinnäytetyölle toimi piikiekkoja valmistava yritys Okmetic Oy. Taustana aiheen valinnalle oli läppäyspesuprosessin laadun parantaminen.
Kirjallisuuskatsaus sisältää piikiekkojen pinnalla olevien epäpuhtauksien optimaalisen puhdistusjärjestyksen, käytettyjen reagenssien vaikutuksen piipinnalle, nykyistä prosessia parantavia ominaisuuksia ja vertailun vaihtoehtoisista reagensseista. Kokonaisuuksien hahmottamiseksi kirjallisuuskatsauksessa käsitellään lisäksi perustietoja piistä alkuaineena, piin käyttötarkoituksesta puolijohdeteollisuudessa ja esittelyn piikiekkojen valmistusprosessin vaiheista pääpiirteittäin. Käytännöntyön tulosten perusteella osoitettiin, että nykyisessä puhdistusprosessissa käytetyn Standard Clean 1-liuoksen pääreagenssien seossuhde ei ole tarkoituksenmukainen, sillä ammoniumhydroksidipitoisuus oli liian korkea suhteessa vetyperoksidiin.